Informace o projektu
Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
- Kód projektu
- GAP205/12/0407
- Období řešení
- 1/2012 - 12/2016
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Standardní projekty
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
Tento projekt je zaměřen na studium chování hybridního PVD-PECVD procesu, který bude využit pro přípravu nanostrukturovaných kompozitních materiálů typu n-MC/a-C(:H). Hlavním cílem tohoto projektu je provést rozsáhlou diagnostiku depozičního plazmatu a porozumět souvislostem mezi parametry depozičního procesu, vlastnostmi depozičního plazmatu a vlastnostmi deponovaných vrstev.
Publikace
Počet publikací: 60
2015
-
Influence of pulse off time on temporal evolution of sputtered species densities in a HiPIMS discharge
Rok: 2015, druh: Konferenční abstrakty
-
Influence of pulse off time on temporal evolution of sputtered species densities in HIPIMS discharge
Rok: 2015, druh: Konferenční abstrakty
-
Nanocomposite nc-TiC/a-C:H protective coatings: from process characterization to mass production
Rok: 2015, druh: Konferenční abstrakty
-
Observation of cathode voltage and discharge current oscillations and spoke behaviour in HiPIMS
Book of Contributed Papers, rok: 2015
-
Reactive argon/acetylene HiPIMS discharge – time-resolved diagnostic of present species
Rok: 2015, druh: Konferenční abstrakty
-
Spoke induced cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS
Rok: 2015, druh: Konferenční abstrakty
-
Structure and mechanical properties of Ni doped nc-TiC/a-C(:H) coatings
Potential Application of Plasma and Nanomaterials 2015. Book of Contributed Papers, rok: 2015
-
Study of Ni doped nc-TiC/a-C(:H) coatings prepared by hybrid PVD-PECVD process
Rok: 2015, druh: Konferenční abstrakty
-
Temporal evolution of sputtered species densities in multi-pulse HiPIMS discharge
Rok: 2015, druh: Konferenční abstrakty
2014
-
Automatic and robust deposition process control to grow hard nc-TiC/a-C:H coatings using industrial magnetron sputtering devices
Rok: 2014, druh: Konferenční abstrakty