Informace o projektu
Optimalizace vrstevnatých systémů používaných v optickém průmyslu
- Kód projektu
- TA02010784 (kod CEP: TA02010784)
- Období řešení
- 1/2012 - 12/2015
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Technologická agentura ČR
- ALFA
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
- Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
- Mgr. David Nečas, Ph.D.
- Spolupracující organizace
-
Vysoké učení technické v Brně
- Odpovědná osoba Doc. RNDr. Miloslav Ohlídal, CSc.
- Odpovědná osoba Mgr. Petr Klapetek, Ph.D.
- Odpovědná osoba RNDr. Jiří Jankuj, CSc.
Vyvinutí nových metod návrhu systémů tenkých vrstev vyráběných v optickém průmyslu zahrnujících defekty vrstev a originálních metod charakterizace těchto systémů umožňujících zdokonalení kontroly kvality. Technologické změny depozice vrstevnatých systémů vyráběných v optickém průmyslu, jako jsou zrcadla s vysokou odrazivostí, antireflexní pokrytí, děliče světla a polarizátory, minimalizující jejich nedokonalosti především v ultrafialové oblasti spektra a umožňující nové progresivní aplikace.
Publikace
Počet publikací: 27
2017
-
Application of imaging spectroscopic reflectometry forcharacterization of gold reduction from organometallic compound bymeans of plasma jet technology
Applied Surface Science, rok: 2017, ročník: 396, vydání: FEB, DOI
-
Determination of local thickness values of non-uniform thin films by imaging spectroscopic reflectometer with enhanced spatial resolution
Measurement Science and Technology, rok: 2017, ročník: 28, vydání: 2, DOI
-
Ellipsometric and reflectometric characterization of thin films exhibiting thickness non-uniformity and boundary roughness
Applied Surface Science, rok: 2017, ročník: 421, vydání: November, DOI
-
Temperature-dependent dispersion model of float zone crystalline silicon
Applied Surface Science, rok: 2017, ročník: 421, vydání: November, DOI
-
Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to magnesium fluoride
Applied Surface Science, rok: 2017, ročník: 421, vydání: November, DOI
2016
-
Optical characterization of SiO2 thin films using universal dispersion model over wide spectral range
Conference on Optical Micro- and Nanometrology VI, rok: 2016
-
Simultaneous determination of optical constants, local thickness and roughness of ZnSe thin films by imaging spectroscopic reflectometry
Journal of Optics, rok: 2016, ročník: 18, vydání: 1, DOI
2015
-
Dělič světla pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm a dopadový úhel 45°±6°
Rok: 2015
-
Dispersion model for optical thin films applicable in wide spectral range
Conference on Optical Systems Design - Optical Fabrication, Testing, and Metrology V, rok: 2015
-
Polarizační kostka pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm
Rok: 2015