Mgr. Kristína Tomanková

e‑mail:

Základní údaje

Druh

Počet publikací: 1

2023

Simulation of a hollow-cathode PECVD process in O2/TMDSO for silicon dioxide deposition - Cross-code validation of 2D plasma model and global plasma model

TOMANKOVÁ Kristína KUBEČKA Martin RIVOLTA Nicolas CORNIL David OBRUSNÍK Adam

Článek v odborném periodiku

Surface and Coatings Technology, rok: 2023, ročník: 474, vydání: December, DOI